第二届全国半导体缺陷研讨会

大会介绍

2024年4月13日至14日，第二届全国半导体缺陷研讨会在绍兴市上虞区成功召开。本次大会由浙江大学硅及先进半导体材料全国重点实验室、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、北京大学、苏州实验室、浙江大学上虞半导体材料研究中心、厦门大学、南昌大学、北京计算科学研究中心、中国科学院半导体研究所、浙江大学杭州国际科创中心等10家单位主办，并得到绍兴市上虞区领导的关心和支持。

浙江大学杨德仁院士、南昌大学江风益院士、北京大学沈波教授、国家第三代半导体专家指导委员会徐禄平副主任、北京计算科学中心魏苏淮研究员、中科院苏州纳米所徐科研究员、厦门大学康俊勇教授，和来自58家高校、院所和企业共220余位专家学者和企业家代表参加本届研讨会，围绕半导体材料生长与缺陷调控、缺陷的理论与计算方法、缺陷的表征分析和装备技术等主题展开了深入探讨和交流。

我司参展内容

• MW（Marzhauser Wetzlar）相关产品

• 显微镜电动平台

MW电动平台行程从75×50mm到300×300mm不等，可与Nikon、 Olympus、Zeiss、Leica 、Meiji、麦克奥迪、舜宇、永新等品牌的不同显微镜配套。该平台可实现XY两轴电动控制，也可组成XYZ三轴控制。

• TST（MMR）相关产品

• 霍尔效应测量系统

• 塞贝克效应测量系统

• 微探针平台变温光学实验腔