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两维平台(XY平台)

MW公司成立于1946年,总部位于德国Wetzlar(Zeiss和Leica总部所在地),专门研发、生产、制造相关运动控制配件,包括两维平台、电动聚焦单元、玻片装载装置、显微操作手、LED照明等产品。 1. 基础版、经济型 型号BASICEK 14 mot 76X30BASICEK 14 mot 76X52行程76X3076X52重复精度<5um<5um准确度+/-20um

服务热线:

021-6208 3715

     MW公司成立于1946年,总部位于德国Wetzlar(Zeiss和Leica总部所在地),专门研发、生产、制造相关运动控制配件,包括两维平台、电动聚焦单元、玻片装载装置、显微操作手、LED照明等产品。

 

 

1. 基础版、经济型

图片关键词

 

型号

BASIC

EK 14 mot 76X30

BASIC

EK 14 mot 76X52

行程

76X30

76X52

重复精度

<5um

<5um

准确度

+/-20um

+/-20um

分辨率



速度

120mm/s

120mm/s

 

 

2. 一体化(集成控制器、测量反馈装置)

图片关键词

型号

ECO

EK 75X50 Pilot

行程

76X52

重复精度

1um(双向)

准确度

+/-3um

分辨率

0.05um

速度

120   mm/s

 


3. 高精度(五年质保)

图片关键词

型号

Scan

75X30

Scan

75X50

Scan

100X100

Scan

150X150

Scan

200X200

Scan 300X300

行程

75X38

76X52

100X100

150X150

200X200

300X300

重复精度

1um(双向)

1um(双向)

0.2um

0.2um

1um(双向)

1um

准确度

+/-3um

+/-3um

+/-3um

+/-3um

+/-3um

+/-5um

分辨率

0.01um

0.01um

0.01um

0.01um

0.01um

0.1um

速度

60-240   mm/s

25-50   mm/s

60-240   mm/s

120-240   mm/s

60-240   mm/s

60-240   mm/s

 

 

4. 高精度,带测量反馈装置(五年质保)

图片关键词

型号

Scan Plus

75X50

Scan Plus

130X85

Scan Plus

100X100

Scan Plus

150X150

Scan Plus

200X200

Scan Plus

300X300

行程

76X52

130X85

100X100

150X150

200X200

300X300

重复精度

1um(双向)

1um(双向)

0.2um

0.2um

1um(双向)

1um(双向)

准确度

+/-1um

+/-1um

+/-1um

+/-1um

+/-1um

+/-1um

分辨率

0.05um

0.05um

0.05um

0.05um

0.05um

0.05um

速度

50mm/s

180mm/s

120-240mm/s

240mm/s

240mm/s

240   mm/s

 

 

5. 电动聚焦单元

图片关键词图片关键词

 

型号

MFD   MFD-2     MA 42

Piezo Z stage纳米位移台

行程

直接耦合在显微镜Z轴旋转精细轴上

 

300um

重复精度

4nm

准确度

0.5%

分辨率

0.002um

4nm

速度

60   rev/s

Settling   time 25ms

载重 500g

 

6. 手动平台

除了电动平台,MW还提供手动平台,可带游标卡尺或数字测量装置,可选行程100X100,150X150,200X200,300X300mm


本资料仅供参考,为不断提高产品性能,本网站中所有图片及性能参数如有改动,恕不另行通知,敬请谅解!本公司保留对所有技术参数和图片的**终解释权。

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